Lenços umedecidos na limpeza industrial é praticidade ao alcance das mãos, assim os operadores podem livrar o ambiente de acúmulo de resíduos. Tomemos como exemplo a indústria de semicondutores; os equipamentos deste seguimento industrial produzem resíduos que contaminam o ambiente de trabalho e comprometem seriamente a produtividade e a saúde dos colaboradores.
Para manter o processo produtivo eficiente e os níveis de produtividade os equipamentos devem ser limpos periodicamente. Este processo de limpeza pode incluir também pisos, paredes e equipamentos mecânicos auxiliares com o intuito de manter o ambiente em ordem e evitar a contaminação de outras áreas dentro da fábrica.
Normalmente, procedimentos de limpeza industrial são realizados quando o acúmulo de resíduos atingem níveis insuportáveis, quando ferramentas e equipamentos tem que ser desmontados, suprimento das maquinas trocados ou quando esta ação está no calendário de manutenção da fábrica (manutenção preventiva). A eficiente remoção de agentes contaminantes exige que sejam usados produtos especificamente desenvolvidos para este trabalho. Resíduos do processo produtivo devem ser retirados das superfícies para minimizar o impacto de contaminação nas ferramentas de produção.
Abordaremos aqui métodos efetivos de remoção de resíduos e contaminantes produzidos no processo de polimento químico mecânico na produção de semicondutores.
O problema com o Polimento Químico Mecânico
Este processo de polimento usa uma solução cremosa de polimento contendo sílica fina ou alumina dispersas em uma variedade de soluções químicas. Infelizmente com o passar do tempo, o processo de polimento causa o acúmulo de solução de polimento na superfície das ferramentas, pisos, maquinas e equipamentos próximos. A solução então seca na forma de um pó contaminante que pode se instalar na ferramenta de polimento e causar riscos no semicondutor o que compromete o produto.
Os resíduos além de contaminarem ambiente e maquinas nas imediações, afeta também outros setores da fábrica, o resultado, é um ambiente sujo e com aspecto nada saudável para os colaboradores.
Os operadores das maquinas de Polimento Químico Mecânico trabalham com roupa de proteção completa para ambientes nível ISO Classe 4 e 5 tem dificuldade de entender porque os protocolos de contaminação são tão rigorosos já que as ferramentas, piso, paredes e tetos estão impregnados com pó. A dificuldade de identificação da fonte dos resíduos já levou empresas a adiar os procedimentos de limpeza ou até mesmo abandonar os esforços de manter o ambiente limpo.
A limpeza dos resíduos do Polimento Químico Mecânico
Os resíduos do polimento químico mecânico não podem ser dissolvidos usando produtos químicos, o resíduo tem a consistência do cimento, o que torna difícil e trabalhoso o trabalho de limpeza por abrasão.
Além do mais a remoção do resíduo por abrasão não é recomendada, levando-se em consideração o controle de contaminação, já que o processo eleva para o ar partículas contaminantes por toda a fábrica. Portanto, não se pode dissolver os resíduos com outros produtos químicos e nem remove-los por abrasão; o que nos resta?
A melhor opção que um encarregado de limpeza pode esperar é reidratar as partículas de sílica e alumina convertendo ambos novamente em estado aquoso e ao mesmo tempo removendo-os da superfície.
Este sistema de limpeza é composto de lenços de tecido em poliéster com borda selada e resistentes a abrasão umedecidos com água deionizada contendo surfactante volátil. O surfactante ajuda na reidratação fazendo com que as moléculas absorvam a água. Os lenços são fortes o bastante para resistir a abrasão e resistência oferecida pelo resíduo seco sem rasgar ou soltar fiapos.
É importante considerar que o sistema de limpeza sugerido toma um certo tempo, já que as partículas do resíduo não de reidratam instantaneamente. A boa noticia é que os operadores de limpeza podem se ocupar de outras tarefas por 40 ou 60 minutos antes de fazer a remoção do resíduo. Nova aplicação do lenço umedecido na superfície pode ser necessária dependendo da quantidade de resíduos e o tempo que ali está.